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化学机械抛光液制备设备

简要描述:化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

  • 产品型号:NP-CMP
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-12-20
  • 访  问  量:898

详细介绍

化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

化学机械抛光液制备设备的特点:

经过测试的工艺路线,已经实现量产                    

智能控制,实时监测,完整数据存储,直观显示图表

转速可调,温度可控,超声波强度可调,可定时

操作方便简洁,清洗容易  


技术参数:

Items

实验型Experiment   Type

生产型Production   Type

温度Temperature(℃)

-30~80

-20℃~80

分散方式Dispersion   Type

连续式continuous

连续式continuous

材质Material   quality

玻璃不锈钢、钛   glass or   stainless steel

不锈钢、钛stainless   steel

规格Specification

依容积depend   on volume

定制customized

流量Flow   rate

50~1000ml/min

可定制customized

介质粘度media   viscosity

104cP

104cP

搅拌转速agitation   speed

500~3000rpm依实际需求选择

500~3000rpm依实际需求选择

剪切转速agitation   speed

1400~20000rpm依实际需求选择

1400~12000rpm依实际需求选择

电源Power

220V/50Hz

220V/50Hz   380V/50Hz

超声功率Ultrasonic   power

200~3000W

定制customized

超声频率Ultrasonic   Frequency

20KHz28KHz40KHz68KHz

20KHz28KHz40KHz68KHz

显示方式Display   model

数显、液晶触摸屏digital   display,LCD   touch screen 依据需要可选择

液晶触摸屏LCD   touch screen

其它Others

温度、功率可调Temperaturepower   adjustment



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