NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP（化学机械抛光液）（包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液）的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

化学机械抛光液制备设备主要用于CMP（化学机械抛光液）（包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液）的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。