咨询热线

18028708284

当前位置:首页   >  产品中心   >  化学机械抛光液制备设备  >  抛光液制备设备

  • NP-CMP化学机械抛光液制备设备

    化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

    访问次数:898
    更新日期:2023-12-20
共 1 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
纳威科技(深圳)有限公司
  • 联系人:宋小姐
  • 地址:深圳市宝安区沙井街道西沙路港联工业园综合楼2楼
  • 邮箱:ly_song22@163.com
  • 传真:
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有©2024纳威科技(深圳)有限公司All Rights Reserved    备案号:粤ICP备2021095862号    sitemap.xml    总访问量:85769
管理登陆    技术支持:化工仪器网