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机械抛光液制备设备

简要描述:NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

  • 产品型号:NP-CMP
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-06-20
  • 访  问  量:326

详细介绍

NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。


NP-CMP化学机械抛光液制备设备经过测试的工艺路线,已经实现量产The tested process route has achieved mass production ;                      

智能控制,实时监测,完整数据存储,直观显示图、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables;

转速可调,温度可控,超声波强度可调,可定时Rotating speed adjustable, Temperature controlled, Ultrasonic intensity adjustable, Timed ;

操作方便简洁,清洗容易  Easy and simple operation,easy to clean。

NP-CMP化学机械抛光液制备设备  参数:

Items

实验型Experiment   Type

生产型Production   Type

温度Temperature(℃)

-30℃~80℃

-20℃~80℃

分散方式Dispersion   Type

连续式continuous

连续式continuous

材质Material   quality

玻璃不锈钢、钛   glass or   stainless steel

不锈钢、钛stainless   steel

规格Specification

依容积depend   on volume

定制customized

流量Flow   rate

50~1000ml/min

可定制customized

介质粘度media   viscosity

104cP

104cP

搅拌转速agitation   speed

500~3000rpm依实际需求选择

500~3000rpm依实际需求选择

剪切转速agitation   speed

1400~20000rpm依实际需求选择

1400~12000rpm依实际需求选择

电源Power

220V/50Hz

220V/50Hz   380V/50Hz

超声功率Ultrasonic   power

200~3000W

定制customized

超声频率Ultrasonic   Frequency

20KHz28KHz40KHz68KHz

20KHz28KHz40KHz68KHz

显示方式Display   model

数显、液晶触摸屏digital   display,LCD   touch screen 依据需要可选择

液晶触摸屏LCD   touch screen


温度、功率可调Temperaturepower   adjustment


   NP(纳威科技)是一研发、制备、定制纳米、新能源等材料的反应、分散、整条产线等设备及清洗设备高科技公司。 公司产品开发遵循“智能化、模块化、连续化、小型化"的设计原则,坚持“设计制造最合适的设备来满足用户的工艺条件"、和“真心为客户提供最佳的解决方案和服务"的理念,开发出来的系列微纳米材料合成反应设备、微纳米材料高效分散设备广泛适用于纳米NiAgCuFePO4MnO2ZrO2TiO2Mg(OH)2SiO2、磷酸铁磷酸铁锂、三元等多种纳米材料的从实验室研究、小试中试放大、直到工业化规模生产应用包括有:1、标准的实验室使用的反应设备、分散设备、搅拌设备、研磨设备、清洗设备等;2、定制各种实验室设备;3、定制实验室成套设备;4、定制中试设备;5、量产设备等。




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